半导体晶圆扩散炉 箱式气氛炉 单温区硅碳棒加热

产品名称：半导体晶圆扩散炉 箱式气氛炉 单温区硅碳棒加热

一、概述

箱式炉系周期作业式，供实验室、工矿企业、科研单位作元素分析测定和小批量生产用。

二、规格、型号

型号：BXS-5-16

有效工作尺寸：150*140*140mm（深*宽*高）

炉膛材质：高纯陶瓷纤维（日企）

烧结时间：可根据产品工艺调节

使用方法：在空气中烧结

额定功率：≈5KW（实际功率由仪表自动控制输出）

电压：220V

额定温度：1650℃

三、具体安装使用方法说明

本设备可直接放置于室内干燥，平整的地面上，要求通风排风良好。

1、烘炉

电炉在正式使用前必须烘炉，以排除炉内的水分（包含吸附水与结构水）。

烘炉以10-30℃/h升温，直至炉温升到1200℃，烘炉时间不得低于24—36小时。电炉停炉半年以上必须重新烘炉。

2、物料简易烧结流程

通入电源—设定温度曲线—放入产品—关闭炉门一启动加热一降温完成工艺烧结—取料、关闭电源。

注：半导体晶圆扩散炉 箱式气氛炉 其他型号规格可以根据用户实际需求设计，

价格仅参考，欢迎咨询详谈：0510-87195028 18888033558 吴经理